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張平全
為國出力的時候到了
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樓主  發表于: 2020-07-12 05:42
我們做的是晶體生長行業超高真空設備,需要在超高真空4.0E-11Torr環境內把指甲大小,厚度約0.2mm產品加溫到800度左右,普通的發熱管,發熱片是不行的,如果有接觸到這類國外設備的朋友們,請提供參考
由于眾所都知的原因,我們公司已承接到國家級的一個小技術項目開發,在國外這是幾十年前就有的技術,但國內還處于空白狀態,我們需要從零開始奮起直追,希望得到以下技術參考,謝謝

由于在回復大家的信息過程 中,出現了多次360退出及信息被轉移的情況,有些信息我不再回復祥細技術內容,請理解
[ 此帖被張平全在2020-07-15 23:40重新編輯 ]
honggun
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1樓  發表于: 2020-07-12 23:17
加熱的空間多大?一次加熱一片還是一次加熱很多片?
樓主留言:
加熱是個半圓柱體,腔體內空間直徑500毫米,高度約400毫米,搭建的是六個工位,但都沒有成功的痕象,包括使用機器視覺測量晶體狀態的技術手法都使用了,我們參與后,在原有模式下,我們僅使用一個工位,做出了OK品,但重復比例不高,很多是著急,就是無不精確加熱控溫,團隊目前受困于加熱材料和測溫手法,期待你更多的支特
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